[发明专利]光学元件、光学薄膜形成装置及光学薄膜形成方法在审
| 申请号： | 201280065431.5 | 申请日： | 2012-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN104066867A | 公开（公告）日： | 2014-09-24 |
| 发明（设计）人： | 川岸秀一朗;山下照夫 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;G02B1/11;G02B3/02 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在被成膜材(3)的曲面状表面(3a)上形成光学薄膜(14)时，对于作为处理室(2)内的空间的一部分的配置部(4)和靶材(5)之间的特定空间(8)，预先利用遮蔽部(9)来包围该特定空间(8)。若在该状态下利用下述溅射工序进行成膜，则在曲面状表面上形成有光学膜厚实质相同的光学薄膜，所述溅射工序中，在为真空状态且供给有活性气体以及惰性气体的处理室(2)内对靶材(5)施加电压。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 光学薄膜 形成 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种光学元件，其中，该光学元件具备形成为曲面状的曲面状表面、和形成于所述曲面状表面上的光学薄膜，所述曲面状表面具有包含所述曲面状表面的中心的第1部位、和与所述第1部位分离的第2部位，所述第1部位上的光学薄膜的光学膜厚与所述第2部位上的光学薄膜的光学膜厚实质相同。
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