[发明专利]低温密封膜无效
申请号: | 201280063368.1 | 申请日: | 2012-12-20 |
公开(公告)号: | CN104159733A | 公开(公告)日: | 2014-11-19 |
发明(设计)人: | K.豪斯曼恩;Y.M.特劳赫特;J.希夫曼恩 | 申请(专利权)人: | 纳幕尔杜邦公司 |
主分类号: | B32B7/00 | 分类号: | B32B7/00;B32B7/02;B32B7/12;B32B27/00;B32B27/08;B32B27/32;B32B27/34;B32B27/36;B32B27/40 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 邹雪梅;李炳爱 |
地址: | 美国特拉华*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明公开了多层结构以及用于该多层结构的方法,其中该多层结构包含芯层和密封层;该结构为共挤出、低温密封、双轴向取向的膜或片材;密封层具有70至100℃的密封起始温度;芯层和密封层的总厚度为20至60μm;并且密封层具有基于芯层和密封层的总厚度计10至20%的厚度。 | ||
搜索关键词: | 低温 密封 | ||
【主权项】:
多层,其包含芯层和密封层或由芯层和密封层制得,其中所述多层为共挤出的、双轴向取向的膜或片材;所述芯层包含聚烯烃;所述密封层具有70至100℃的密封起始温度并且包含下列物质或由下列物质制得:至少一种离聚物、聚烯烃、聚酰胺、聚酯、聚氨酯、或它们中的两种或更多种的组合;所述芯层和所述密封层的总厚度为20至60μm;并且所述密封层具有基于所述芯层和密封层的总厚度计10至20%的厚度。
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