[发明专利]用于在衬底上沉积抗蚀剂薄层的设备和工艺有效
申请号: | 201280061213.4 | 申请日: | 2012-10-12 |
公开(公告)号: | CN104220638B | 公开(公告)日: | 2017-03-22 |
发明(设计)人: | G.M.丹纳;H.G.加特斯;V.S.塔拉索夫;P.E.凯恩;P.G.梅登;E.M.萨赫斯 | 申请(专利权)人: | 1366科技公司 |
主分类号: | C23C18/14 | 分类号: | C23C18/14 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 肖日松,谭祐祥 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及薄聚合物膜在衬底上的形成。描述了一种设备,该设备用于将固体聚合物抗蚀剂转化为小颗粒的气溶胶,使颗粒带静电并将其沉积在衬底上,并且使颗粒流动为连续的层。还描述了一种设备,该设备用于通过加热抗蚀剂以形成例如适合雾化的低粘度液体并且应用射流或冲击雾化以及气溶胶颗粒定径的技术来形成气溶胶,从而将固体聚合物抗蚀剂转化为小颗粒的气溶胶。还描述了使用电离气体在气溶胶颗粒上赋予电荷以及使用一系列充电装置建立将带电颗粒流导向至衬底的电场的方法。该系列充电装置和相关联的设备导致气溶胶颗粒的高收集效率。 | ||
搜索关键词: | 用于 衬底 沉积 抗蚀剂 薄层 设备 工艺 | ||
【主权项】:
一种用于在衬底上沉积在室温下为固体的聚合物的层的设备,所述层具有指定厚度,所述设备包括:a. 固体聚合物供应器;b. 第一加热器,其联接到所述聚合物供应器,并且被构造成使固体聚合物熔融以变为液体;c. 气溶胶颗粒的气溶胶供应器,所述颗粒能够由所述液体聚合物形成,大部分所述颗粒在尺寸上小于所述指定厚度的五倍;d. 电离气体分子的供应器,其在下文中称为电离器;e. 所述气溶胶供应器和所述电离器被布置成使得所述电离的气体分子和所述气溶胶颗粒能够靠近,使得所述颗粒的至少一部分能够变得带电;f. 衬底支撑件,衬底可被支撑在其上;g. 电场发生器,在此处能够生成电场,所述电场能够将带电颗粒导向至在所述衬底支撑件上的衬底;以及h. 第二加热器,由所述衬底支撑件支撑的衬底能够在此处被加热至使与所述衬底接触的颗粒软化的程度、使所述颗粒熔融并形成具有所述指定厚度的聚合物层的程度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于1366科技公司,未经1366科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201280061213.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理