[发明专利]由含二硫键材料制备官能化基底的方法和系统有效
申请号: | 201280053382.3 | 申请日: | 2012-08-31 |
公开(公告)号: | CN103906799A | 公开(公告)日: | 2014-07-02 |
发明(设计)人: | J·A·斯皮瓦萨克;R·皮尔逊;K·W·理查兹;K·D·齐格里诺 | 申请(专利权)人: | 阿斯彭研究公司 |
主分类号: | C08J7/00 | 分类号: | C08J7/00;C08J7/16;C08J7/18;C08L81/04;C09D181/04 |
代理公司: | 上海一平知识产权代理有限公司 31266 | 代理人: | 须一平;马莉华 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明提供的实施方式涉及用于生成定制的官能化基底的方法和系统。特别地,本发明提供的实施方式通过引入二硫键断裂材料来改变含二硫键的原料,从而生成能够用于各种应用和各种化学和其他反应、过程和方法的定制的官能化基底。 | ||
搜索关键词: | 二硫键 材料 制备 官能 基底 方法 系统 | ||
【主权项】:
一种制备官能化基底的方法,包括:将含二硫键材料引入多官能团单体,所述含二硫键材料包括连接第一部分和第二部分的二硫键,所述多官能团单体包括至少一个第一官能团和至少一个第二官能团,所述第一官能团包括用于断裂二硫键的二硫键断裂材料;和无需使用水、水性溶剂或非水性溶剂进行固相反应,其中,所述进行固相反应包括:通过所述第一官能团的二硫键断裂材料断裂所述二硫键;和在所述第一部分和所述多官能团单体之间形成第二键,从而形成官能化基底。
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