[发明专利]光电变换装置及其制造方法、以及光电变换模块有效

专利信息
申请号: 201280052186.4 申请日: 2012-04-10
公开(公告)号: CN103907205A 公开(公告)日: 2014-07-02
发明(设计)人: 小西博文;松浦努;西川祐介;菅原胜俊 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L31/075 分类号: H01L31/075;H01L31/18;H01L31/20
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 金春实
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种光电变换装置(1),在通过受光生成光生载流子的n型半导体基板(11)的第一面上,依次层叠实质上本征的i型非晶质含氢半导体层(12)、p型非晶质含氢半导体层(13)、以及第1透明导电层(14),其中,第1透明导电层(14)具有:含氢区域(142),由含氢的透明导电性材料构成;以及氢扩散抑制区域(141),相比于含氢区域(142)在p型非晶质含氢半导体层(13)侧存在且由实质上不含氢的透明导电性材料构成,氢扩散抑制区域(141)具有p型非晶质含氢半导体层(13)侧的含氢量少于含氢区域(142)侧的含氢量的氢浓度分布。
搜索关键词: 光电 变换 装置 及其 制造 方法 以及 模块
【主权项】:
一种光电变换装置,在通过受光来生成光生载流子的n型半导体基板的第一面上,依次层叠了实质上本征的半导体层、p型半导体层、以及透明导电层,该光电变换装置的特征在于,所述透明导电层具有:含氢区域,由含氢的透明导电性材料构成;以及氢扩散抑制区域,相比于所述含氢区域存在于所述p型半导体层侧,由实质上不含氢的透明导电性材料构成,所述氢扩散抑制区域具有所述p型半导体层侧的含氢量少于所述含氢区域侧的含氢量的氢浓度分布。
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