[发明专利]冶金容器中的水准测量有效
申请号: | 201280044535.8 | 申请日: | 2012-09-11 |
公开(公告)号: | CN103797339A | 公开(公告)日: | 2014-05-14 |
发明(设计)人: | 托马斯·维尔赫姆森 | 申请(专利权)人: | 阿格利斯集团股份公司 |
主分类号: | G01F23/26 | 分类号: | G01F23/26;B22D2/00;F27D21/00 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 白云;郑霞 |
地址: | 瑞典*** | 国省代码: | 瑞典;SE |
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摘要: | 通过系统测量冶金容器的腔体(3)中的导电材料的垂直灌装水准,该系统包括:一条发射导线(5),用于当连接到一个交变电源时,生成一个电磁场;以及一条接收导线(6),其被安排成用于感测该电磁场,从而生成一个输出信号。该发射及接收导线(5,6)被安排在该容器的金属套内部从而以一个相互间隔共同延伸来限定一个面对该腔体(3)并且沿着该腔体(3)的外围以一个基本上闭合的回路而延伸的间隔面积(7)。该相互间隔被选择从而使得该输出信号中的变化由与该间隔面积(7)相邻的导电材料的量的局部变化而引起的对该电磁场的变化所控制。该间隔面积(7)的至少一部分限定了一个垂直测量区域,在该垂直测量区域中该间隔面积(7)沿着外围倾斜从而背离该容器的水平及垂直方向。由此,该间隔面积(7)可以适应于该腔体(3)的任意形状,从而用任意所期望的传递函数设计该系统,例如在该垂直测量区域的外延外部的没有转折点的线性函数。 | ||
搜索关键词: | 冶金 容器 中的 水准测量 | ||
【主权项】:
一种用于测量冶金容器(1)的容量体积(3)内的导电材料的垂直灌装水准的系统,该冶金容器(1)由一个围绕该容量体积(3)并且在一个垂直方向上延伸的外金属套(2)限定,该系统包括:一条发射导线(5),用于当连接到一个交变电源时,生成一个电磁场,一条接收导线(6),其被安排成用于感测该电磁场,从而生成一个作为该垂直灌装水准的一个函数的输出信号,其中该发射及接收导线(5,6)被安排在该金属套(2)内部从而以一个相互间隔(d)共同延伸来限定一个面对该容量体积(3)并且沿着该容量体积(3)的外围以一个基本上闭合的回路而延伸的间隔面积(7),其中该相互间隔(d)被选择从而使得该输出信号中的变化由与所述间隔面积(7)相邻的导电材料的量的局部变化而引起的对该电磁场的变化所控制,并且其中该间隔面积(7)的至少一部分限定了一个垂直测量区域,在该垂直测量区域中该间隔面积(7)沿着外围倾斜从而背离该容器(1)的水平及垂直方向。
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