[发明专利]具有基底板的真空腔室无效
| 申请号： | 201280044300.9 | 申请日： | 2012-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN103797420A | 公开（公告）日： | 2014-05-14 |
| 发明（设计）人： | J.J.M.佩杰斯特 | 申请（专利权）人： | 迈普尔平版印刷IP有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张雅莉 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种目标加工处理机械（100），譬如光刻机或检测机械，其包括刚性基底板（150）、用于投射一或更多光学或粒子束于目标（130）上的投射柱（101）、支撑该投射柱的支撑框架（102），该支撑框架由基底板支撑并且固定到该基底板、包括用于负载该目标的可移动部分（128）以及由基底板所支撑并且固定到该基底板的固定部分（132、133）的载台、用于检测由该柱所投射的一或更多射束的射束传感器，该射束传感器至少部分地由该基底板支撑并且固定到该基底板、以及密封该支撑框架与该柱的真空腔室（110），用于维持在该腔室的内部空间中的真空环境，该真空腔室借助形成其部分的基底板形成，并且包含多个墙板（171、172），所述墙板（171、172）包括由基底板支撑并且固定至该基底板的多个侧墙板（171）。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 基底 空腔 | ||
【主权项】：
一种目标加工处理机械，如光刻机或检测机械，包括：刚性基底板（150）；投射柱（101），用于投射一或更多光束或粒子束于目标上；支撑框架（102），支撑该投射柱，该支撑框架由基底板支撑并且固定到该基底板；载台，包含用于负载该目标的可移动部分以及由基底板所支撑并且固定到该基底板的固定部分（132、133）；射束传感器（160），用于检测由该柱（101）所投射的一或更多射束，该射束传感器至少部分地由该基底板（150）所支撑并且固定到该基底板；以及真空腔室（110），密封该支撑框架与该柱，用于维持该腔室的内部空间中的真空环境，该真空腔室借助形成其部分的基底板形成，并且包含多个墙板（171、172），所述墙板（171、172）包括由基底板支撑并且固定至该基底板的多个侧墙板（171）。
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