[发明专利]图案相位差膜的制造方法

摘要

本发明针对适用于被动式三维图像显示的图案相位差膜，提供能够高精度地简单且大量制作的图案相位差膜的制造方法。在供取向膜制作的掩模中使供曝光处理的缝隙（S）的宽度随着朝向该缝隙的长边方向的端部而逐渐变窄来制作该缝隙。

主权项

一种图案相位差膜的制造方法，在输送尺寸长的透明膜材料的同时依次进行处理从而制作图案相位差膜，所述图案相位差膜的制造方法的特征在于，包括：光取向材料膜制作工序，在所述透明膜材料上制作光取向材料膜；曝光工序，通过使用掩模的所述光取向材料膜的曝光处理，采用光取向方法制作取向膜；以及相位差层制作工序，在所述取向膜上制作基于对应于右眼用透过光的、赋予相位差的右眼用区域和对应于左眼用透过光的、赋予相位差的左眼用区域而成的相位差层，所述曝光工序是将所述透明膜材料卷绕在辊上进行输送的同时，经由与所述辊相对配置的掩模照射光，执行曝光处理，所述掩模的供所述光取向材料膜曝光的缝隙在所述透明膜材料的输送方向延伸，并在与所述延伸方向正交的方向上反复形成，所述缝隙被制作成长边方向的端部侧中的两端部侧或一端部侧随着朝向端部而宽度逐渐变窄。