[发明专利]介质处理装置以及介质处理装置的控制方法

摘要

本发明提供一种能够快速地处理记录介质，并能够在记录介质的传送方向上使装置小型化的介质处理装置。介质处理装置(1)具有：从下侧面向介质传送路径（13）的磁头（24）、（26）以及（28）；从上侧面向介质传送路径（13）的磁头（25）、（27）以及（29）；分别与磁头（24）～（29）对置配置的垫辊（45）～（50）；使垫辊（45）、（47）以及（49）从介质传送路径（13）退避的移动机构（51）；以及使垫辊（46）、（48）、（50）从介质传送路径（13）退避的移动机构（52）。在记录介质的传送方向上，磁头（24）（（26）、（28））和磁头（25）（（27）、（29））相互错开，磁头（24）（（26）、（28））和磁头（25）（（27）、（29））在该方向上的距离比被记录于记录介质的磁条的磁性数据的记录范围的长度短。

主权项

一种介质处理装置，其特征在于，其具有：介质传送路径，其传送具有磁条的卡状的记录介质；磁头部，其包括第一磁头、第二磁头、第一垫辊以及第二垫辊，所述第一磁头从经过所述介质传送路径的所述记录介质的厚度方向的一侧面向所述介质传送路径，所述第二磁头从所述记录介质的所述厚度方向的另一侧面向所述介质传送路径，所述第一垫辊与所述第一磁头对置配置且被朝向所述第一磁头施力，所述第二垫辊与所述第二磁头对置配置且被朝向所述第二磁头施力；第一移动机构，其使所述第一磁头以及/或者所述第一垫辊在所述第一磁头以及所述第一垫辊能够与所述记录介质接触的第一接触位置和所述第一磁头以及/或者所述第一垫辊朝向远离所述介质传送路径的方向退避的第一退避位置之间移动；以及第二移动机构，其使所述第二磁头以及/或者所述第二垫辊在所述第二磁头以及所述第二垫辊能够与所述记录介质接触的第二接触位置和所述第二磁头以及/或者所述第二垫辊朝向远离所述介质传送路径的方向退避的第二退避位置之间移动，在所述磁头部中，在所述记录介质的传送方向上，所述第一磁头和所述第二磁头相互错开，在所述记录介质的所述传送方向上的所述第一磁头与所述第二磁头之间的距离比被记录于所述磁条的磁性数据的记录范围的长度短。