[发明专利]溅射靶和溅射方法在审
申请号: | 201280037352.3 | 申请日: | 2012-06-14 |
公开(公告)号: | CN103717782A | 公开(公告)日: | 2014-04-09 |
发明(设计)人: | 罗纳德·M·帕克;罗伯特·T·罗兹比金 | 申请(专利权)人: | 唯景公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 章蕾 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本公开涉及溅射靶和溅射方法。特定而言,描述溅射靶和对于高度均匀的溅射沉积使用常规溅射靶以及本文中描述的溅射靶的溅射方法。 | ||
搜索关键词: | 溅射 方法 | ||
【主权项】:
一种溅射靶总成,其包括:(a)背部支撑件;和(b)组装在所述背部支撑件上的两个或多个溅射靶分区,两个或多个溅射靶分区的所述组装界定靶区域,其包括所述两个或多个溅射靶分区之间的任何间隙或接缝;其中所述两个或多个溅射靶分区被构造使得在垂直于所述背部支撑件的表面和/或所述两个或多个溅射靶分区的溅射表面的方向上,在任何所述两个或多个测间没有到所述背部支撑件的视线。
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