[发明专利]氢分离膜保护层及其涂覆方法在审

专利信息
申请号: 201280036364.4 申请日: 2012-07-20
公开(公告)号: CN103702748A 公开(公告)日: 2014-04-02
发明(设计)人: 黄敬兰;朴种洙;李信根;李震石;李春枎;李晟旭 申请(专利权)人: 韩国能源技术研究院
主分类号: B01D69/12 分类号: B01D69/12;B01D71/02;B05D7/24;B01D69/02
代理公司: 北京邦信阳专利商标代理有限公司 11012 代理人: 黄泽雄;颜海峰
地址: 韩国大*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及用于在通过使用分离膜生产或净化氢的过程中使氢分离膜免受颗粒污染物危害的方法。保护层(其中,通过对分离膜的表面涂覆能引起氢分子和氢原子的表面运动的陶瓷和金属形成金属陶瓷)起到阻止分离膜和包含在气体中的颗粒(污染物或催化剂)之间的接触的作用。按照这种方式,可以提高氢分离膜的耐久性并最大限度地降低对分离膜的氢渗透性的影响。
搜索关键词: 分离 保护层 及其 方法
【主权项】:
一种分离膜保护层结构,其包括金属陶瓷形式的分离膜保护层,所述分离膜保护层通过使用陶瓷和金属对密致的氢分离膜层的表面进行涂覆被制备,所述陶瓷和金属适于引起氢分子和氢原子的表面迁移。
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