[发明专利]III族氮化物半导体发光元件及III族氮化物半导体发光元件的制作方法无效

专利信息
申请号: 201280035103.0 申请日: 2012-04-06
公开(公告)号: CN103748749A 公开(公告)日: 2014-04-23
发明(设计)人: 米村卓巳;京野孝史;盐谷阳平 申请(专利权)人: 住友电气工业株式会社
主分类号: H01S5/323 分类号: H01S5/323;H01L33/32
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 李亚;穆德骏
地址: 日本大阪*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种被降低的正向电压的III族氮化物半导体激光元件。在p型包覆层中,以p型包覆层中的p型掺杂剂的浓度大于n型杂质的浓度的方式含有p型掺杂剂及n型杂质。通过使用比p型包覆层的带隙大的激发光的测定而获得的光致发光(PL)光谱具有能带端发光及施主受主对发光的波峰。该PL光谱的能带端发光峰值的能量E(BAND)与该PL光谱的施主受主对发光峰值的能量E(DAP)之差(E(BAND)-E(DAP))与该III族氮化物半导体激光元件(11)的正向驱动电压(Vf)具有相关。在该能量差(E(BAND)-E(DAP))为0.42eV以下时,III族氮化物半导体发光元件的正向电压施加时的驱动电压降低。
搜索关键词: iii 氮化物 半导体 发光 元件 制作方法
【主权项】:
一种III族氮化物半导体发光元件,包含:n型包覆层,设置于基板的主面上,由n型III族氮化物半导体构成;活性层,设置于所述基板的所述主面上,由III族氮化物半导体构成;以及p型包覆层,设置于所述基板的所述主面上,由p型III族氮化物半导体构成,所述活性层设置于所述n型包覆层与所述p型包覆层之间,所述n型包覆层、所述活性层及所述p型包覆层沿着所述基板的所述主面的法线轴而配置,在所述p型包覆层中添加有提供受主能级的p型掺杂剂,所述p型包覆层中含有提供施主能级的n型杂质,所述p型掺杂剂的浓度大于所述n型杂质的浓度,所述p型包覆层的光致发光光谱的能带端发光峰值的能量E(BAND)与该光致发光光谱的施主受主对发光峰值的能量E(DAP)之差(E(BAND)‑E(DAP))为0.42电子伏特以下,这里,所述能带端发光的能量E(BAND)及所述施主受主对发光的能量E(DAP)以电子伏特的单位表示,所述n型包覆层的所述n型III族氮化物半导体的c轴相对于所述法线轴倾斜,所述p型包覆层的所述p型III族氮化物半导体的c轴相对于所述法线轴倾斜。
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