[发明专利]具有PARP抑制活性的新型化合物有效
申请号: | 201280034304.9 | 申请日: | 2012-07-12 |
公开(公告)号: | CN103703002A | 公开(公告)日: | 2014-04-02 |
发明(设计)人: | 本田崇宏;榎本裕志;川岛健二;高冈慎治;藤冈恭丘;松田学;大桥康司;藤田由纪惠;平井慎一郎;仓岛宏明 | 申请(专利权)人: | 参天制药株式会社 |
主分类号: | C07D487/04 | 分类号: | C07D487/04;A61K31/519;A61K31/5377;A61K31/551;A61P9/10;A61P27/02;A61P43/00;C07D495/14;C07D519/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供了下述通式(1)表示的化合物或其盐。R1表示卤原子等;R2及R3表示氢原子等;R4及R5表示氢原子等,或者R4和R5也可形成氧代基;Ra及Rb表示可以具有取代基的低级烷基等,或者也可键合而形成可以被一个或多个Rc取代的含氮杂环;Rc表示可以具有取代基的芳基等;环A表示苯环等;m表示0、1或2。 | ||
搜索关键词: | 具有 parp 抑制 活性 新型 化合物 | ||
【主权项】:
1.下述通式(1)表示的化合物或其盐,
R1表示卤原子、低级烷基、羟基、低级烷氧基、氨基、硝基或氰基;R2及R3相同或不同,表示氢原子、卤原子或低级烷基;R4及R5相同或不同,表示氢原子、氘原子或低级烷基,或者R4和R5也可形成氧代基;Ra及Rb相同或不同,表示氢原子、可以具有取代基的低级烷基或可以具有取代基的芳基;另外,Ra和Rb也可键合而形成可以被一个或多个Rc取代的含氮杂环;Rc表示可以具有取代基的低级烷基、可以具有取代基的低级环烷基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的杂环基、羟基、可以具有取代基的低级烷氧基、可以具有取代基的低级烷基羰基、可以具有取代基的低级环烷基羰基、可以具有取代基的低级烷基氨基羰基、可以具有取代基的低级环烷基氨基羰基、可以具有取代基的低级烷氧基羰基、氨基、低级烷基氨基或羧基;环A表示苯环或不饱和单环式杂环;m表示0、1或2。
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