[发明专利]液晶取向膜的制造方法、液晶取向膜及液晶显示元件有效
申请号: | 201280031708.2 | 申请日: | 2012-06-28 |
公开(公告)号: | CN103827740B | 公开(公告)日: | 2017-08-25 |
发明(设计)人: | 川月喜弘;近藤瑞穗;后藤耕平;万代淳彦;南悟志;名木达哉 | 申请(专利权)人: | 日产化学工业株式会社;公立大学法人兵库县立大学 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 刘多益 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种使高效率的光取向处理成为可能的液晶取向膜的制造方法、由此制得的液晶取向膜及液晶显示元件。在基板上形成包含具有光反应基的聚酰亚胺前体的薄膜,对所述薄膜面一边加热一边照射偏振的紫外线,在所述基板上制成由包含聚酰亚胺前体的高分子构成的液晶取向膜。 | ||
搜索关键词: | 液晶 取向 制造 方法 液晶显示 元件 | ||
【主权项】:
液晶取向膜的制造方法,其特征在于,在基板上形成包含具有光反应基的聚酰亚胺或聚酰亚胺前体的薄膜,对所述薄膜面一边加热一边以10~500mJ/cm2的照射量照射波长为300~400nm的偏振的紫外线,在所述基板上制成由包含聚酰亚胺前体的高分子构成的液晶取向膜;所述具有光反应基的聚酰亚胺前体包含下述式[1]表示的重复单元和下述式[2]表示的重复单元,或包含下述式[1]表示的重复单元和下述式[3]表示的重复单元,【化1】式[1]中,R1表示二价有机基,R2表示四价有机基,R3表示氢原子或碳数1~6的有机基,R4表示氢原子或碳数1~6的有机基,n1表示正整数,【化2】式[2]中,R5表示构成光反应基的二价有机基,R6表示四价有机基,R7表示氢原子或碳数1~6的有机基,R8表示氢原子或碳数1~6的有机基,n2表示正整数;【化3】式[3]中,R9表示二价有机基,R10表示构成光反应基的二价有机基,n3表示正整数;并且,所述具有光反应基的聚酰亚胺前体通过使包含下述式[4]表示的二胺的二胺成分与四羧酸二酐进行缩聚反应而得,其中式[4]表示的二胺相对于二胺成分总量在10摩尔%以上,【化4】式[4]中,X1表示单键或碳数1~6的亚烷基,其中不相邻的-CH2-可被醚键、酯键或酰胺键取代;X2表示-OCO-CH=CH-或-CH=CH-COO-;X3表示单键、碳数1~10的亚烷基或二价苯环;X4表示单键、-OCO-CH=CH-或-CH=CH-COO-;X5表示单键或碳数1~6的亚烷基,其中不相邻的-CH2-可被醚键、酯键或酰胺键取代;而且,式[4]中具有1个以上的肉桂酰基。
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