[发明专利]用于距离测量的耦合多波长共聚焦系统无效

专利信息
申请号: 201280028199.8 申请日: 2012-05-31
公开(公告)号: CN103620340A 公开(公告)日: 2014-03-05
发明(设计)人: O·埃亚尔 申请(专利权)人: 伊斯曼柯达公司
主分类号: G01B11/14 分类号: G01B11/14;G02B21/00
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 赵蓉民
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种用于测量到基板的距离的系统,其包括第一光源,所述第一光源通过透镜发射第一波长在所述基板的区域上。第二光源通过透镜发射第二波长在所述基板的区域上。第一和第二检测器配置为检测从所述基板反射回的第一和第二波长光。处理器被配置为计算第一响应函数,其中所述第一响应函数将从所述第一光源发射的反射光强度表示为成像设备和所述基板之间的距离的函数。第二响应函数将从所述第二光源发射的反射光强度表示为所述成像设备和所述基板之间的距离的函数。比率响应函数将所述第一响应函数和所述第二响应函数的比率表示为所述成像设备和所述基板之间的距离的函数。
搜索关键词: 用于 距离 测量 耦合 波长 聚焦 系统
【主权项】:
一种用于测量到基板的距离的系统,所述系统包括:第一光源,其通过透镜发射第一波长到所述基板的区域上;第二光源,其通过所述透镜发射第二波长到所述基板的所述区域上;其中所述透镜是共聚焦和色散的;第一检测器,其配置为检测从所述基板反射回的第一波长光;第二检测器,其配置为检测从所述基板反射回的第二波长光;和处理器,其配置为计算:a)第一响应函数,其中所述第一响应函数将从所述第一光源发射的反射光强度表示为成像设备和所述基板之间的距离的函数;b)第二响应函数,其中所述第二响应函数将从所述第二光源发射的反射光强度表示为所述成像设备和所述基板之间的距离的函数;和c)比率响应函数,其中所述比率响应函数将所述第一响应函数和所述第二响应函数的比率表示为所述成像设备和所述基板之间的距离的函数。
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