[发明专利]微机电系统（MEMS）以及相关的致动器凸块、制造方法和设计结构有效
| 申请号： | 201280026455.X | 申请日： | 2012-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN103917481A | 公开（公告）日： | 2014-07-09 |
| 发明（设计）人： | C.V.杰恩斯;A.K.斯坦珀 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | B81B3/00 | 分类号： | B81B3/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 赵国荣 |
| 地址： | 美国纽*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供微机电系统（MEMS）结构、制造方法和设计结构。形成MEMS结构的方法包括在基板上形成固定致动器电极（115）和接触点。该方法还包括在固定致动器电极和接触点之上形成MEMS梁（100）。该方法还包括形成与固定致动器电极的部分对齐的致动器电极阵列（105’），其大小和尺度设置为防止MEMS梁在重复循环后下陷在固定致动器电极上。致动器电极阵列形成为与MEMS梁的下侧和固定致动器电极的表面至少之一直接接触。 | ||
| 搜索关键词： | 微机 系统 mems 以及 相关 致动器凸块 制造 方法 设计 结构 | ||
【主权项】：
一种形成MEMS结构的方法，包括：图案化基板上的配线层以形成固定致动器电极和接触点；在该配线层上形成牺牲材料；在该配线层之上将该牺牲材料图案化为具有多个沟槽的阵列，该多个沟槽形成为具有预定的高度和宽度；用材料填充该多个沟槽的阵列；在该填充的多个沟槽的阵列之上形成与该多个沟槽的阵列中的该材料接触的MEMS梁；在该MEMS梁之上形成另外的牺牲材料；在该MEMS梁之上的该另外的牺牲材料之上形成盖；在该盖中形成至少一个排出孔；以及排出该MEMS梁之下的该牺牲材料和该MEMS梁之上的该另外的牺牲材料，使该多个沟槽的阵列内的该材料变为从该MEMS梁的下侧悬吊，以该预定的高度和宽度形成致动器凸块阵列。
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