[发明专利]含有氢基-三氰基-硼酸根阴离子的化合物在审
申请号: | 201280026258.8 | 申请日: | 2012-05-23 |
公开(公告)号: | CN103582647A | 公开(公告)日: | 2014-02-12 |
发明(设计)人: | N·艾格纳缇弗;M·舒尔特;川田健太郎;后藤智久;E·波恩哈特;V·波恩哈特-皮彻欧吉纳;H·威尔纳 | 申请(专利权)人: | 默克专利股份有限公司 |
主分类号: | C07F5/02 | 分类号: | C07F5/02;H01M10/05;C07F5/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 陈晰 |
地址: | 德国达*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及含有氢基-三氰基-硼酸根阴离子的化合物,其制备及其用途,特别是作为用于电化学或光电器件的电解质组合物的部分。 | ||
搜索关键词: | 含有 三氰基 硼酸 阴离子 化合物 | ||
【主权项】:
式I所示的化合物[Kt]z+z[BH(CN)3]‑ I其中[Kt]z+表示无机或有机阳离子,z为1、2、3或4,其中不包括氢基‑三氰基‑硼酸钠、氢基‑三氰基‑硼酸钾、氢基‑三氰基‑硼酸银和[(苯基)3P‑N=N‑P(苯基)3]氢基‑三氰基‑硼酸盐。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于默克专利股份有限公司,未经默克专利股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201280026258.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种热熔胶加贴TPU发泡薄膜
- 下一篇:外后视镜