[发明专利]微机械装置及其设计方法有效

专利信息
申请号: 201280023350.9 申请日: 2012-05-11
公开(公告)号: CN103650343A 公开(公告)日: 2014-03-19
发明(设计)人: 米卡·普伦尼拉;安特尔·亚科拉;托马斯·彭萨拉 申请(专利权)人: 芬兰国家技术研究中心
主分类号: H03H9/02 分类号: H03H9/02;H03H9/24;B81B3/00
代理公司: 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 代理人: 吴大建;刘华联
地址: 芬兰渥*** 国省代码: 芬兰;FI
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种微机械装置,包括:半导体元件,所述半导体元件能够产生偏转或谐振,并且包括具有不同材料性质的至少两个区域;以及功能性连接到所述半导体元件的驱动或传感机构。根据本发明,所述区域中的至少一个包括一种或多种n型掺杂剂,并且所述区域的相对体积、掺杂浓度、掺杂剂和/或晶体定向构造成使得所述区域的广义刚度的温度敏感度至少在一个温度下符号相反,并且在100℃的温度范围内,所述半导体元件的广义刚度的总体温度漂移为50ppm或更少。所述装置可以为谐振器。还公开了一种设计所述装置的方法。
搜索关键词: 微机 装置 及其 设计 方法
【主权项】:
一种微机械装置,包括:-半导体元件,所述半导体元件能够产生偏转或谐振,并且包括具有不同材料性质的至少两个区域;-功能性连接到所述半导体元件的驱动或传感机构,其特征在于,-所述区域中的至少一个包括一种或多种n型掺杂剂,-所述区域的相对体积、掺杂浓度、掺杂剂和/或晶体定向构造成使得:所述区域的广义刚度的温度敏感度至少在一个温度下符号相反;在100℃的温度范围内,所述半导体元件的广义刚度的总体温度漂移为50ppm或更少。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于芬兰国家技术研究中心,未经芬兰国家技术研究中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201280023350.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top