[发明专利]正型抗蚀剂组合物和使用该组合物的抗蚀剂膜、涂有抗蚀剂的掩模坯、抗蚀剂图案形成方法和光掩模有效
| 申请号： | 201280022975.3 | 申请日： | 2012-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN103534648B | 公开（公告）日： | 2017-03-15 |
| 发明（设计）人： | 土村智孝;稻崎毅 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 贺卫国 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种正型抗蚀剂组合物，其含有(A)聚合物化合物，所述聚合物化合物具有其中酚羟基的氢原子被由下式(I)表示的酸不稳定基团代替的结构，其中R表示单价有机基团；A表示具有多环烃环结构的基团或具有多环杂环结构的基团；并且*表示与所述酚羟基的氧原子的结合位置。 | ||
| 搜索关键词： | 正型抗蚀剂 组合 使用 抗蚀剂膜 涂有抗蚀剂 掩模坯 抗蚀剂 图案 形成 方法 光掩模 | ||
【主权项】：
一种正型抗蚀剂组合物，所述正型抗蚀剂组合物包含：聚合物化合物，所述聚合物化合物含有由下式(II)表示的重复单元：其中R1表示氢原子、烷基或卤素原子；Ar表示二价芳族基团；R表示单价有机基团；并且A表示具有多环烃环结构的基团或具有多环杂环结构的基团。
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