[发明专利]等离子体增强式化学气相沉积设备及其控制方法有效
申请号: | 201280015161.7 | 申请日: | 2012-03-16 |
公开(公告)号: | CN103459664A | 公开(公告)日: | 2013-12-18 |
发明(设计)人: | 吴定根;李光浩;李长祐;金廷奎;辛镇赫 | 申请(专利权)人: | LG电子株式会社 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/513;C23C16/44 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 付永莉;郑特强 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 公开一种等离子体增强式化学气相沉积设备,其包括将物体装载在托台上的装载站;通过对托台上装载的物体执行等离子体反应而形成功能膜的操作站;将物体从托台移走的卸载站;将托台从卸载站运送到装载站的循环站;以及将托台按顺序运送到各个站以使托台循环的运送机。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 增强 化学 沉积 设备 及其 控制 方法 | ||
【主权项】:
一种在换热器上形成功能膜的等离子体增强式化学气相沉积设备,所述设备包括:装载站,将所述换热器装载到托台上;操作站,接纳来自所述装载站的托台,并通过利用等离子体反应将功能膜设置在位于所述托台的所述换热器上;卸载站,从所述托台卸载涂覆有功能膜的所述换热器;以及至少一个运送机,使所述托台从所述卸载站返回所述装载站。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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