[发明专利]等离子体增强式化学气相沉积设备及其控制方法有效

专利信息
申请号: 201280015161.7 申请日: 2012-03-16
公开(公告)号: CN103459664A 公开(公告)日: 2013-12-18
发明(设计)人: 吴定根;李光浩;李长祐;金廷奎;辛镇赫 申请(专利权)人: LG电子株式会社
主分类号: C23C16/50 分类号: C23C16/50;C23C16/513;C23C16/44
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 付永莉;郑特强
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 公开一种等离子体增强式化学气相沉积设备,其包括将物体装载在托台上的装载站;通过对托台上装载的物体执行等离子体反应而形成功能膜的操作站;将物体从托台移走的卸载站;将托台从卸载站运送到装载站的循环站;以及将托台按顺序运送到各个站以使托台循环的运送机。
搜索关键词: 等离子体 增强 化学 沉积 设备 及其 控制 方法
【主权项】:
一种在换热器上形成功能膜的等离子体增强式化学气相沉积设备,所述设备包括:装载站,将所述换热器装载到托台上;操作站,接纳来自所述装载站的托台,并通过利用等离子体反应将功能膜设置在位于所述托台的所述换热器上;卸载站,从所述托台卸载涂覆有功能膜的所述换热器;以及至少一个运送机,使所述托台从所述卸载站返回所述装载站。
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