[发明专利]用于磁感应阻抗测量装置的平面线圈布置无效
| 申请号： | 201280007510.0 | 申请日： | 2012-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN103442634A | 公开（公告）日： | 2013-12-11 |
| 发明（设计）人： | F·J·罗塞利费雷尔;C·H·伊格尼;M·哈姆施 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | A61B5/05 | 分类号： | A61B5/05;G01N27/02 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王英;刘炳胜 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于磁感应阻抗测量装置的平面线圈布置（400），包括激励线圈（102）和探测线圈（404），所述激励线圈（102）被配置为在对象中生成磁激励场，所述探测线圈（404）被配置为探测磁响应场，所述磁响应场响应于所述磁激励场在所述对象中感生电流而生成。为了最小化所述磁激励场在所述探测线圈（404）中的影响，所述探测线圈（404）的形状关于所述激励线圈（102）径向对称，并且相对于所述激励线圈（102）被布置为使得所述磁激励场在所述探测线圈（404）中最小化。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 感应 阻抗 测量 装置 平面 线圈 布置 | ||
【主权项】：
一种用于磁感应阻抗测量装置（504）的平面线圈布置（100、200、300、400、500），所述平面线圈布置（100、200、300、400、500）包括：‑激励线圈（102），其被配置为在对象中生成磁激励场，以及‑探测线圈（104、204、304、404、504a‑c），其被配置为探测磁响应场，所述磁响应场响应于所述磁激励场在所述对象中感生电流而生成，其中，所述探测线圈（104、204、304、404）的形状关于所述激励线圈（102）径向对称，并且相对于所述激励线圈（104）被布置为使得所述磁激励场在所述探测线圈（104、204、304、404、504a‑c)中最小化。
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