[发明专利]在切割胶带上施加有底部填料膜的预切割的晶片有效

专利信息
申请号: 201280007466.3 申请日: 2012-01-30
公开(公告)号: CN103460361B 公开(公告)日: 2016-11-30
发明(设计)人: G·黄;Y·金;R·吉诺 申请(专利权)人: 汉高知识产权控股有限责任公司
主分类号: H01L21/50 分类号: H01L21/50
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 柴丽敏;于辉
地址: 德国杜*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种制造具有预先施加的底部填料的半导体的方法,包括:(a)提供在有源面上具有多个金属凸块的减薄的硅半导体晶片,任选地,硅通孔垂直穿过所述硅半导体晶片;(b)在切割支撑胶带上提供底部填料,其中所述底部填料被预先切割为所述半导体晶片的形状;(c)将所述切割支撑胶带上的底部填料与所述半导体晶片对齐布置,并将所述底部填料层合至所述半导体晶片。
搜索关键词: 切割 胶带 施加 底部 填料 晶片
【主权项】:
制造用于切割的具有施加的底部填料的减薄的半导体晶片的方法,包括:(a)提供具有有源面、背侧、和在有源面上具有多个金属凸块的减薄的半导体晶片;(b)在切割支撑胶带上提供底部填料,其中所述底部填料被预先切割为所述减薄的半导体晶片的形状;(c)将所述切割支撑胶带上的所述底部填料与所述减薄的半导体晶片对齐布置,并且将所述底部填料层合至所述有源面,形成切割支撑胶带、底部填料和减薄的半导体晶片的集合;(d)将所述集合安装进切割框架,并将所述减薄的半导体晶片的背侧暴露以用于后续切割;其中,在一个制造步骤中供应所述底部填料和所述切割支撑胶带至所述减薄的半导体晶片。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于汉高知识产权控股有限责任公司,未经汉高知识产权控股有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201280007466.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top