[发明专利]溅射装置有效
| 申请号： | 201280004692.6 | 申请日： | 2012-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN103354844A | 公开（公告）日： | 2013-10-16 |
| 发明（设计）人： | D.T.克罗利;W.A.梅雷迪思 | 申请（专利权）人： | 零件喷涂公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 谭祐祥 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 在一个实施方案中，磁控组件包括多个磁体和被配置来将所述多个磁体固定在至少四个独立的线性阵列中的磁轭。将所述多个磁体布置在所述磁轭中，以便形成包括外部和内部的模式。所述外部基本上包围所述内部的周界。用于形成所述外部的所述磁体具有第一极性，且用于形成所述内部的所述磁体具有第二极性。所述模式的所述外部包括基本上彼此平行的一对细长断面。所述模式的所述外部包括一对回车道断面，其中每个回车道断面基本上跨越所述一对细长断面的相应端，且其中每个回车道断面包括具有所述第一极性的多个磁体。在另一个实施方案中，磁控组件包括磁轭和多个磁体，所述多个磁体可配置地放置在所述磁轭上，以便形成具有至少一个梯级回车道断面的跑道模式。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 装置 | ||
【主权项】：
一种磁控组件，其包括：多个磁体；和磁轭，其被配置来将所述多个磁体固定在至少四个独立的线性阵列中；其中所述多个磁体被布置在所述磁轭中，以便形成包括外部和内部的模式，其中所述外部基本上包围所述内部的周界；其中用于形成所述外部的所述磁体具有第一极性，且用于形成所述内部的所述磁体具有第二极性；其中所述模式的所述外部包括基本上彼此平行的一对细长断面；且其中所述模式的所述外部包括一对回车道断面，其中每个回车道断面基本上均跨越所述一对细长断面的相应端，且其中每个回车道断面包括具有所述第一极性的多个磁体。
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