[发明专利]非挥发性存储元件、非挥发性存储装置及非挥发性存储元件的写入方法有效
申请号: | 201280003077.3 | 申请日: | 2012-10-15 |
公开(公告)号: | CN103180948A | 公开(公告)日: | 2013-06-26 |
发明(设计)人: | 村冈俊作;魏志强;高木刚 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | H01L27/105 | 分类号: | H01L27/105;G11C13/00;H01L45/00;H01L49/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 周欣;陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种非挥发性存储元件,其中,在电脉冲的电压值具有V2>V1>0V>V3>V4的关系、电阻变化层的电阻值具有R3>R2>R4>R1的关系的情况下,在对电极间外加电压值为V2以上的电脉冲时,电阻变化层为R2,在对电极间外加电压值为V4以下的电脉冲时,电阻变化层为R4,当电阻变化层的电阻值为R2时,在对电极间外加电压值为V3的电脉冲时,电阻变化层为R3,当电阻变化层的电阻值为R4时,在对电极间外加电压值为V1的电脉冲时,电阻变化层为R1。 | ||
搜索关键词: | 挥发性 存储 元件 装置 写入 方法 | ||
【主权项】:
一种非挥发性存储元件,其具备:第1电极、第2电极、电阻变化层,其介于所述第1电极与所述第2电极之间,由金属氧化物构成,基于外加给所述第1电极及所述第2电极间的电脉冲的电压值,其电阻值可逆地变化;所述电阻变化层具有与所述第1电极连接的第1金属氧化物区域和与所述第2电极连接的、含氧率比所述第1金属氧化物区域高的第2金属氧化物区域;在所述电脉冲的以所述第1电极为基准时的电压值即V1、V2、V3、V4、V5及V6具有V2>V1>V6>0V>V5>V3>V4的关系、所述电阻变化层的电阻值即R1、R2、R3及R4具有R3>R2>R4>R1的关系的情况下,在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值为V2以上的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值为R2;在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值为V4以下的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值为R4;当所述电阻变化层的电阻值为R2时,在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值为V5以上的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值仍为R2,在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值小于V5且大于V3的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值比R2上升,在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值为V3的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值为R3;当所述电阻变化层的电阻值为R3时,在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值小于V3且大于V4的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值比R3下降,在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值为V4的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值为R4;当所述电阻变化层的电阻值为R4时,在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值为V4以下的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值仍为R4,在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值大于V6且小于V1的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值比R4下降,在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值为V1的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值为R1;当所述电阻变化层的电阻值为R1时,在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值大于V1且小于V2的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值比R1上升,在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值为V2的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值为R2。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
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