[发明专利]非挥发性存储元件、非挥发性存储装置及非挥发性存储元件的写入方法有效

专利信息
申请号: 201280003077.3 申请日: 2012-10-15
公开(公告)号: CN103180948A 公开(公告)日: 2013-06-26
发明(设计)人: 村冈俊作;魏志强;高木刚 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H01L27/105 分类号: H01L27/105;G11C13/00;H01L45/00;H01L49/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 周欣;陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种非挥发性存储元件,其中,在电脉冲的电压值具有V2>V1>0V>V3>V4的关系、电阻变化层的电阻值具有R3>R2>R4>R1的关系的情况下,在对电极间外加电压值为V2以上的电脉冲时,电阻变化层为R2,在对电极间外加电压值为V4以下的电脉冲时,电阻变化层为R4,当电阻变化层的电阻值为R2时,在对电极间外加电压值为V3的电脉冲时,电阻变化层为R3,当电阻变化层的电阻值为R4时,在对电极间外加电压值为V1的电脉冲时,电阻变化层为R1。
搜索关键词: 挥发性 存储 元件 装置 写入 方法
【主权项】:
一种非挥发性存储元件,其具备:第1电极、第2电极、电阻变化层,其介于所述第1电极与所述第2电极之间,由金属氧化物构成,基于外加给所述第1电极及所述第2电极间的电脉冲的电压值,其电阻值可逆地变化;所述电阻变化层具有与所述第1电极连接的第1金属氧化物区域和与所述第2电极连接的、含氧率比所述第1金属氧化物区域高的第2金属氧化物区域;在所述电脉冲的以所述第1电极为基准时的电压值即V1、V2、V3、V4、V5及V6具有V2>V1>V6>0V>V5>V3>V4的关系、所述电阻变化层的电阻值即R1、R2、R3及R4具有R3>R2>R4>R1的关系的情况下,在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值为V2以上的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值为R2;在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值为V4以下的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值为R4;当所述电阻变化层的电阻值为R2时,在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值为V5以上的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值仍为R2,在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值小于V5且大于V3的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值比R2上升,在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值为V3的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值为R3;当所述电阻变化层的电阻值为R3时,在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值小于V3且大于V4的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值比R3下降,在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值为V4的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值为R4;当所述电阻变化层的电阻值为R4时,在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值为V4以下的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值仍为R4,在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值大于V6且小于V1的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值比R4下降,在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值为V1的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值为R1;当所述电阻变化层的电阻值为R1时,在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值大于V1且小于V2的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值比R1上升,在对所述第1电极及所述第2电极间外加电压值为V2的所述电脉冲时,所述电阻变化层的电阻值为R2。
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