[实用新型]控制系统有效
| 申请号： | 201220736029.2 | 申请日： | 2012-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN202995297U | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | 乔徽 | 申请（专利权）人： | 光达光电设备科技（嘉兴）有限公司 |
| 主分类号： | G05B11/42 | 分类号： | G05B11/42 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 314300 浙江省嘉兴市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种控制系统，所述控制系统包括：用于探测所述反应腔内的气体信息的探测单元；用于基于所述气体信息设定控制参数的参数设定单元，所述参数设定单元与所述探测单元相连；基于所述参数设定单元设定的控制参数控制所述加热单元进行加热的控制单元，所述控制单元与所述参数设定单元相连。本实用新型的控制系统可以根据反应腔内微环境的不同，实现对加热单元的精准控制。 | ||
| 搜索关键词： | 控制系统 | ||
【主权项】：
一种控制系统，用于控制半导体加工设备的加热单元对反应腔内的托盘或/和衬底进行加热，所述控制系统包括：用于探测所述反应腔内的气体信息的探测单元；用于基于所述气体信息设定控制参数的参数设定单元，所述参数设定单元与所述探测单元相连；基于所述参数设定单元设定的控制参数控制所述加热单元进行加热的控制单元，所述控制单元与所述参数设定单元相连。
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