[实用新型]可单片使用的单银结构低辐射镀膜玻璃有效

专利信息
申请号: 201220570740.5 申请日: 2012-11-01
公开(公告)号: CN202986242U 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 陈波;吴斌;孙大海;葛剑君;董华明 申请(专利权)人: 上海耀皮玻璃集团股份有限公司;上海耀皮工程玻璃有限公司
主分类号: B32B17/06 分类号: B32B17/06;B32B9/04;B32B15/04
代理公司: 上海东亚专利商标代理有限公司 31208 代理人: 罗习群;刘莹
地址: 201204 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型提供一种可单片使用的单银结构低辐射镀膜玻璃,该玻璃自玻璃基板向外的结构层依次为:电介质层Ⅰ+复合吸收层+银层+保护层Ⅰ+电介质层Ⅱ+保护层Ⅱ;采用真空磁控溅射镀膜工艺,优点是,将热反射镀膜玻璃可单片使用的特性和低辐射镀膜玻璃优良的光学性能相结合,使得离线低辐射玻璃能够单片使用。
搜索关键词: 单片 使用 结构 辐射 镀膜 玻璃
【主权项】:
一种可单片使用的单银结构低辐射镀膜玻璃,其特征在于:该镀膜玻璃的膜层结构 ,自玻璃基板向外依次为: 电介质层Ⅰ、复合吸收层、银层、保护层Ⅰ、电介质层Ⅱ、保护层Ⅱ;其中:电介质层Ⅰ、Ⅱ为SiNx,膜层厚度为35nm~70nm;复合吸收层为:金属镀层、金属化合物镀层、金属镀层的三层复合结构;或金属镀层、金属化合物镀层二层结构;或金属化合物镀层、金属镀层二层结构;其中金属材料为Ti,或Ni,或Cr,或Cu,或Zn,或Nb,或Zr,或Sn,或V;金属化合物为,ZnOx,或AZO,或SiNx,或SiO2,或SnO2,或TiOx,或ZrO2,或TiNx,或NbOx,或NbNx;该复合吸收层总厚度为5nm~30nm;银层为Ag,膜层厚度为5nm~15nm;保护层Ⅰ为NiCr或Ti,膜层厚度为2nm~15nm;保护层Ⅱ为金属化合物,ZrO2或NbO2或SiO2或BN或CNx或TiNx或NbNx较致密的材料,膜层厚度为10nm~25nm。
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