[实用新型]表面曝气氧化沟工艺曝气池恒定液位控制装置有效

专利信息
申请号: 201220518228.6 申请日: 2012-10-10
公开(公告)号: CN202849152U 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 王淦;侯红勋;彭永臻 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: C02F3/14 分类号: C02F3/14;G05D9/12
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 刘萍
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种表面曝气氧化沟工艺曝气池恒定液位控制装置,涉及的是污水处理技术领域。倒伞型表面曝气设备的污水处理厂普遍存在能耗较高的问题,现有的污水处理厂没有考虑对液位的精确控制,曝气设备难以在最佳工况下运行。本装置通过液位计和液位控制器实现对氧化沟液位的精确控制,确保不同水量下曝气池液位恒定,从而使倒伞型表面曝气设备在最佳工况下运行,提高设备的动力效率,降低污水处理运行成本。
搜索关键词: 表面 氧化 工艺 曝气池 恒定 控制 装置
【主权项】:
一种表面曝气氧化沟工艺曝气池恒定液位控制装置,该装置包括氧化沟(1),倒伞型表面曝气机(2)、出水堰门(3)、其特征在于:所述装置还包括液位计(4)、液位计套筒(5)和液位控制器(6);液位计和出水堰门均连接到一自动控制装置;液位计(4)设置在液位计套筒(5)内;液位计套筒(5)固定在氧化沟内出水堰门下游2‑3m处。
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