[实用新型]多晶硅还原炉有效
| 申请号： | 201220514813.9 | 申请日： | 2012-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN202849076U | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 赵纯源 | 申请（专利权）人： | 内蒙古锋威硅业有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/021 | 分类号： | C01B33/021 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 750336 内蒙古自治*** | 国省代码： | 内蒙古;15 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种多晶硅还原炉，包括炉体（1）和底盘（2）。炉体（1）与底盘（2）之间采用法兰连接。底盘（2）上均匀安装有30对，即60个电极（3）。炉体（1）为带有夹套的双层结构，炉体（1）的内壁是银合金涂层。炉体（1）上对称分布有4个观察窗（4）。本实用新型的还原电耗小，单炉产量高，操作安全可靠，而且能使工作人员从外部清晰、准确地了解炉内的状况。 | ||
| 搜索关键词： | 多晶 还原 | ||
【主权项】：
一种多晶硅还原炉，包括炉体（1）和底盘（2），其特征在于：炉体（1）与底盘（2）之间采用法兰连接；所述底盘（2）上沿均匀安装有30对，即60个电极（3）；所述炉体（1）为带有夹套的双层结构，所述炉体（1）的内壁是银合金涂层；所述炉体（1）上对称分布有4个观察窗（4）；电极（3）在底盘（2）上沿4个同心圆均匀分布，由内向外每个圆上的电极（3）数量依次为6个，12个，18个和24个。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于内蒙古锋威硅业有限公司，未经内蒙古锋威硅业有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201220514813.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
