[实用新型]一种金属有机物化学气相沉积装置

摘要

本实用新型提供一种金属有机物化学气相沉积装置，所述化学气相反应沉积装置包括一个位于反应腔内的基座用于放置待处理基片，基座由下方的旋转轴带动高速转动。与基座相对的包括一个气体分布装置，气体分布装置包括多根平行的气体分布管道，气体分布管道下方包括导气部件，导气部件包括与所述气体分布管道位置对应的多个凹槽和向下突起部，所述多根气体分布管道分别通过多个导气槽与导气部件下表面的凹槽和向下突起部相连通。导气部件下表面的多个导气槽分别向下喷出第一和第二反应气体。所述导气槽之间具有相同的距离。

主权项

一种金属有机物化学气相沉积装置，所述装置包括一个反应腔，反应腔内包括一个放置待处理基片的基座，所述基座设置在旋转轴上，使所述基座转速大于500转/分钟；一个气体分布器与所述基座相对并向所述基座供应气体，所述气体分布器包括多条平行排布的气体分布管道，所述气体分布管道包括第一气体分布管道和第二气体分布管道，分别与第一反应气体源和第二反应气体源相连通，其中第一气体分布管道与第二气体分布管道交替排布；所述多条第一气体分布管道和第二气体分布管道下方还包括一个导气部件，所述导气部件下表面包括多个凹槽和向下突出部；所述多个凹槽与所述多个第一气体管道位置对应，所述凹槽内包括第一导气槽与所述多个第一气体分布管道连通；所述多个突出部与所述多个第二气体分布管道位置对应，所述突出部内包括多个第二导气槽与所述第二气体分布管道连通；所述第一气体分布管道与第二气体分布管道平行交替分布且具有相同的距离L。