[实用新型]投影光学系统以及具备该投影光学系统的投影仪有效
| 申请号： | 201220447740.6 | 申请日： | 2012-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN203054329U | 公开（公告）日： | 2013-07-10 |
| 发明（设计）人： | 大谷信;守国荣时 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02B13/12 | 分类号： | G02B13/12;G02B13/18;G02B27/18;G02B7/04;G03B21/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李洋;王轶 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种投影光学系统以及具备该投影光学系统的投影仪。第二组（40）在液晶面板（18G（18R、18B））的纵向与横向具有不同的放大倍数，因此，投影光学系统（20）的整个系统也在纵横方向具有不同的焦距且纵横方向的放大倍率也不同，能使液晶面板（18G（18R、18B））的图像的横纵比与投射到投影屏（SC）上的图像的横纵比不同。即，能利用本投影光学系统（20）进行宽度与高度之比即长宽比的转换。此时，通过第一组（30）与第二组（40）的进退动作联动地变更位置，能调整成像位置，因此，通过在第一动作状态以及第二动作状态中任一种状态下均将成像面保持在同一位置，能够与投影屏（SC）的配置适应。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 光学系统 以及 具备 投影仪 | ||
【主权项】：
一种投影光学系统，其特征在于， 该投影光学系统构成为，当向被投射面上放大投射图像时，使光调制元件的图像的横纵比与投射到所述被投射面的图像的横纵比不同， 从所述被投射面侧开始依次具备：第一组，该第一组包括进行变焦动作的变焦光学系统；以及第二组，该第二组包括在所述光调制元件的纵向与横向具有不同的放大倍数且能够相对于光路进退的变形光学系统， 所述第一组与所述第二组的进退动作联动地沿光轴方向移动。
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