[实用新型]基板显影后清洗装置有效
| 申请号： | 201220431632.X | 申请日： | 2012-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN202725542U | 公开（公告）日： | 2013-02-13 |
| 发明（设计）人： | 余海;崔缀奎;马超;欧阳欠 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/04 | 分类号： | B08B3/04 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 韩国胜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及光刻技术，公开了一种基板显影后清洗装置，包括依次邻接的初级清洗区、中级清洗区和终极清洗区，显影后基板依次经过初级清洗区、中级清洗区和终极清洗区进行清洗，每个清洗区设置有供水管和排废管，所述中级清洗区和终极清洗区之间设置有第一集水池，终极清洗区的终极排废管和中级清洗区的中级供水管分别与所述第一集水池相连，所述初级清洗区和中级清洗区之间设置有第二集水池，初级清洗区的初级供水管和中级清洗区的中级排废管与所述第二集水池相连。本实用新型在保证显影后基板清洗效果的同时大幅节约用水，并且自动化能力强，易实现。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种基板显影后清洗装置，包括依次邻接的初级清洗区、中级清洗区和终极清洗区，显影后基板依次经过初级清洗区、中级清洗区和终极清洗区进行清洗，每个清洗区设置有供水管和排废管，所述中级清洗区和终极清洗区之间设置有第一集水池，终极清洗区的终极排废管和中级清洗区的中级供水管分别与所述第一集水池相连，其特征在于，所述初级清洗区和中级清洗区之间设置有第二集水池，初级清洗区的初级供水管和中级清洗区的中级排废管与所述第二集水池相连。
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