[实用新型]一种垂直喷淋式MOCVD反应器的出口系统

摘要

本实用新型公开了一种垂直喷淋式MOCVD反应器出口系统。该反应器进口采用垂直喷淋式来保证进气的均匀性，出口系统由石墨大盘上晶片间隙处有规则排列的许多小出口组成，反应尾气经由小出口到达石墨盘下方后经由石墨盘下表面到达反应器的周向或中心处的总出口。此反应器出口系统在充分利用垂直喷淋式反应器入口均匀性的基础上，实现了喷淋头中心处和边缘处喷入的反应气体尾气流经距离的一致性，从而在无旋转装置的情况下保证了基片沿径向的沉积均匀性。另外，反应尾气流经石墨盘的下表面，一方面减少了热涡旋效应对反应气流的负面影响，另一方面其对石墨盘的加热也提高了热利用效率。

主权项

一种垂直喷淋式MOCVD反应器出口系统，包括一个扁筒形反应室（9）、喷淋头（10）、石墨大盘（5）和晶片（6），其特征在于：1）所述喷淋头（10）安装在反应室（9）的顶盖上，喷淋头（10）上周期性交错排列着小穿孔而垂直插置的III族气体管口（3）和V族气体管口（4），喷淋头（10）为水冷式喷淋头，设有进水口（1）和出水口（2）；2）在所述反应室（9）的内底上方水平安装石墨大盘（5），在石墨大盘（5）上周期性排列安置所述晶片（6），在石墨大盘（5）上对应各晶片（6）之间的间隙处，开有出气小孔（7）；3）在反应室（9）的下底设有出气口（9）。