[实用新型]气体扩散均匀化装置及使用该装置的等离子体工艺设备有效
| 申请号： | 201220236521.3 | 申请日： | 2012-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN202643920U | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | 赖守亮;季安 | 申请（专利权）人： | 北京普纳森电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B33/12 | 分类号： | C30B33/12;C23C16/455;C23C16/50 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 陈英 |
| 地址： | 100089 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种提高真空腔室中气体扩散均匀化的装置，包括一片或多片叠设的带有若干气体通孔的扩散件，扩散件的形状和尺寸与真空腔室空间的相应截面匹配，使得通过扩散件将真空腔室分割成两个空间，使得气体导入口与抽真空口分别置于该两个空间。本实用新型还提供设置气体扩散均匀化装置的等离子体工艺设备，其中的气体扩散均匀化装置安装于真空腔室内的内壁与所述下电极的下底面之间的空间内，气体导入装置和抽真空口分置于该两个空间，且所述下电极的上端面与所述气体导入装置处于同一空间中。本实用新型以设置扩散件这种简单的方式有效地实现了对真空腔室中气体扩散均匀性的改善，使得等离子体工艺的均匀性得到显著提高。相比传统的技术解决办法，本实用新型涉及到的机构易于实现，机械加工和安装简单可靠，成本也显著降低。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 扩散 均匀 化装 使用 装置 等离子体 工艺设备 | ||
【主权项】：
一种气体扩散均匀化装置，其特征在于：包括一片或多片叠设的带有若干气体通孔的扩散件，所述扩散件的形状和尺寸与要安装的真空腔室空间的相应截面匹配，使得通过所述扩散件将所述真空腔室分割成两个空间，使得气体导入口与抽真空口分别置于该两个空间内。
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