[实用新型]基板处理装置有效
申请号: | 201220174467.4 | 申请日: | 2012-04-16 |
公开(公告)号: | CN202575410U | 公开(公告)日: | 2012-12-05 |
发明(设计)人: | 申屠江民;许亮;胡杰飞;郑伟庆;乐卫文;张平;施久林;陶伟福 | 申请(专利权)人: | 浙江金徕镀膜有限公司 |
主分类号: | B65G49/06 | 分类号: | B65G49/06;B24B9/08 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 321017 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型涉及触控显示技术领域,尤其涉及一种基板处理装置。该基板处理装置包括第一处理单元、第二处理单元及传送单元,所述基板处理装置用于处理一包括沿第一方向的第一边缘和第二边缘、沿第二方向的第三边缘和第四边缘、以及第一表面的基板,所述第一处理单元用于处理所述第一边缘和第二边缘,所述第二处理单元用于处理所述第三边缘和第四边缘,所述传送单元至少包括第一模块、第二模块及第三模块,所述第一模块、第二模块及第三模块分别与所述基板的第一表面作用,分别形成第一作用点、第二作用点及第三作用点,且所述第一作用点、第二作用点及第三作用点中相邻两个之间具有相同的间距。 | ||
搜索关键词: | 处理 装置 | ||
【主权项】:
一种基板处理装置,包括第一处理单元、第二处理单元及传送单元,所述基板处理装置用于处理一包括沿第一方向的第一边缘和第二边缘、沿第二方向的第三边缘和第四边缘、以及第一表面的基板,所述第一处理单元用于处理所述第一边缘和第二边缘,所述第二处理单元用于处理所述第三边缘和第四边缘,所述传送单元至少包括第一模块、第二模块及第三模块,所述第一模块、第二模块及第三模块分别与所述基板的第一表面作用,分别形成第一作用点、第二作用点及第三作用点,且所述第一作用点、第二作用点及第三作用点中相邻两个之间具有相同的间距。
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