[实用新型]一种平面靶磁场强度的检测装置有效
申请号: | 201220108299.9 | 申请日: | 2012-03-21 |
公开(公告)号: | CN202548307U | 公开(公告)日: | 2012-11-21 |
发明(设计)人: | 盛国浩;李毅 | 申请(专利权)人: | 深圳市创益科技发展有限公司 |
主分类号: | G01R33/02 | 分类号: | G01R33/02 |
代理公司: | 深圳市毅颖专利商标事务所 44233 | 代理人: | 张艺影;李奕晖 |
地址: | 518029 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种磁控溅射装置中平面靶的磁场强度的检测设备,属于磁控溅射镀膜领域的检测技术。平面靶磁场强度的检测装置,包括检测机构、机架及其平台,平面靶放置在机架的平台上,机架上设有移动装置,检测机构安装在移动装置的滑动架上,滑动架带动检测机构做X向和Y向运动,实现测量位置的一致性,保证测量数据的准确性和再现性,操作简便,成本低。 | ||
搜索关键词: | 一种 平面 磁场强度 检测 装置 | ||
【主权项】:
一种平面靶磁场强度的检测装置,包括检测机构、机架及其平台,平面靶放置在机架的平台上,其特征在于机架上设有移动装置,检测机构安装在移动装置的滑动架上,滑动架带动检测机构做X向和Y向运动。
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