[实用新型]立式抛光机有效
| 申请号: | 201220024157.4 | 申请日: | 2012-01-17 |
| 公开(公告)号: | CN202462186U | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
| 发明(设计)人: | 周齐佑 | 申请(专利权)人: | 周齐佑 |
| 主分类号: | B24B29/00 | 分类号: | B24B29/00;B24B41/06 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 529153 广东省江门*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | 本实用新型公开了一种立式抛光机,包括机架,机架上固定有立式导轨,立式导轨上固定有转盘,转盘的活动盘安装有抛光电机,抛光电机连接抛光轮;机架上还设有用于安装加工工件的活动夹具。立式导轨带动抛光轮沿垂直方向实现运动,同时转盘能够使抛光轮根据工件的表面形状进行摆动,而且活动夹具也能够带动待加工工件进行转动、平移、摆动等动作,使得抛光轮与工件相互之间的活动配合能够实现各种内外表面的抛光加工,且由于抛光轮整体是沿垂直方向活动的,因此整机体积较小、所占用的场地较少。 | ||
| 搜索关键词: | 立式 抛光机 | ||
【主权项】:
立式抛光机,其特征在于:包括机架(1),机架(1)上固定有立式导轨(2),立式导轨(2)上固定有转盘(3),转盘(3)的活动盘(31)安装有抛光电机(4),抛光电机(4)连接抛光轮(5);机架(1)上还设有用于安装加工工件的活动夹具(6)。
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