[发明专利]一种盛载单晶硅晶圆抛光片片盒的清洗工艺无效
| 申请号： | 201210534565.9 | 申请日： | 2012-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN102974581A | 公开（公告）日： | 2013-03-20 |
| 发明（设计）人： | 刘琦;齐钊;李诺;孙希凯;吕莹 | 申请（专利权）人： | 天津中环领先材料技术有限公司 |
| 主分类号： | B08B9/28 | 分类号： | B08B9/28;H01L21/02 |
| 代理公司： | 天津中环专利商标代理有限公司 12105 | 代理人： | 王凤英 |
| 地址： | 300384 天津市西青区*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明涉及单晶硅晶圆抛光片的包装技术，特别涉及一种盛载单晶硅晶圆抛光片片盒的清洗工艺。本工艺步骤是：将英特格公司的非免洗片盒用去离子水通过旋转式片盒清洗机清洗，以实现干燥且洁净度较高的片盒，先将清洗机的湿度调至25±5%；温度调至90±10℃；氮气流量200±50L/min；氮气温度120±20℃，清洗工艺分成十六个步骤，分别采取顺时针和逆时针旋转对片盒进行内向冲洗；外向冲洗；内吹热氮气；外吹热氮气程序，其每个步骤设定清洗时间、转速以及执行的程序。采用本工艺经过清洗后的片盒替代高洁净度的片盒，不仅省去了高洁净度辅料的成本，而且加强了硅片表面颗粒的控制。可以在半导体行业的高速发展和激烈的市场竞争占据有利地位。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 单晶硅 抛光 片片 清洗 工艺 | ||
【主权项】：
1.一种盛载单晶硅晶圆抛光片片盒的清洗工艺，其特征在于，将英特格公司的非免洗片盒用去离子水通过旋转式片盒清洗机清洗，以实现干燥且洁净度较高的片盒，先将清洗机的湿度调至25±5%；温度调至90±10℃；氮气流量200±50L/min；氮气温度120±20℃，清洗工艺分成十六个步骤，分别采取顺时针和逆时针旋转对片盒进行内向冲洗；外向冲洗；内吹热氮气；外吹热氮气程序，其每个步骤设定的清洗时间、转速以及执行的程序如下表：![]()
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