[发明专利]一种具有固定辅助边的掩模板及其制作方法在审
| 申请号： | 201210524484.0 | 申请日： | 2012-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN103869601A | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 魏志凌 | 申请（专利权）人： | 昆山允升吉光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/38 | 分类号： | G03F1/38 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有固定辅助边的掩模板，包括掩模板主体、辅助边及半刻线区，其特征在于，所述辅助边设置在所述掩模板主体外侧通过所述半刻线区与所述掩模板主体连接；本发明还公开了相应的制作方法。本发明公开的具有固定辅助边的掩模板可以方便省力的将辅助边切除，并大大降低了传统工艺剪切过程中对原有掩模板上丝网的影响，也避免了传统工艺中的掩模板边缘曲翘甚至使得裁剪区域附近固定点脱落，大大提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 固定 辅助 模板 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种具有固定辅助边的掩模板，,包括掩模板主体、辅助边及半刻线区，其特征在于，所述辅助边设置在所述掩模板主体外侧通过所述半刻线区与所述掩模板主体连接。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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