[发明专利]磁性器件及其制造方法有效
| 申请号： | 201210524179.1 | 申请日： | 2012-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN103151457B | 公开（公告）日： | 2017-09-01 |
| 发明（设计）人： | 李佑澈;渡嘉敷健;权亨峻;郑明勋 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | H01L43/12 | 分类号： | H01L43/12;H01L43/08;H01L27/22;C23F1/12 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 翟然 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种制造磁性器件的方法包括形成层叠结构，该层叠结构包括磁性层；通过使用蚀刻气体蚀刻该层叠结构，该蚀刻气体包括按体积计的至少80%的H2气体。 | ||
| 搜索关键词： | 磁性 器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种制造磁性器件的方法，所述方法包括：形成层叠结构，所述层叠结构包括磁性层；以及通过使用蚀刻气体蚀刻所述层叠结构，所述蚀刻气体包括按体积计的至少80％的H2气体和其余的额外气体，所述其余的额外气体包括惰性气体和/或NH3气体，所述蚀刻气体不含卤素。
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