[发明专利]等离子体设备及其反应腔室有效
| 申请号： | 201210516454.5 | 申请日： | 2012-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN103849836A | 公开（公告）日： | 2014-06-11 |
| 发明（设计）人： | 刘建生;陈鹏;吕铀;杨玉杰;郭浩 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C16/44 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 宋合成;黄德海 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种等离子体设备及其反应腔室，用于等离子体的反应腔室报包括：腔体，所述腔体内具有反应腔，所述反应腔具有工艺气体进口和工艺气体出口；和边缘磁场增强组件，所述边缘磁场增强组件设在所述反应腔内以增强所述反应腔外周缘处的磁场。根据本发明实施例的用于等离子体设备的反应腔室具有能够提高等离子体设备清洗晶圆的均匀性、增大预清洗工艺窗口等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 设备 及其 反应 | ||
【主权项】：
一种用于等离子体设备的反应腔室，其特征在于，包括：腔体，所述腔体内具有反应腔，所述反应腔具有工艺气体进口和工艺气体出口；和边缘磁场增强组件，所述边缘磁场增强组件设在所述反应腔内以增强所述反应腔外周缘处的磁场。
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