[发明专利]一种具有保护层结构的碳层材料的制备方法无效
申请号: | 201210468256.6 | 申请日: | 2011-10-23 |
公开(公告)号: | CN102925859A | 公开(公告)日: | 2013-02-13 |
发明(设计)人: | 马宇尘 | 申请(专利权)人: | 常州碳元科技发展有限公司 |
主分类号: | C23C14/12 | 分类号: | C23C14/12 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 213149 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供一种具有保护层结构的碳层材料的制备方法,属于碳材料技术领域。该方法包括有如下步骤:步骤1,设置涂有压敏胶的基板;步骤2,对应着前述基板上的压敏胶位置贴上碳层材料,对碳层材料进行聚合物气相沉积操作;步骤3,聚合物气相沉积镀膜的厚度选择在0.05-15微米之间,在聚合物气相沉积操作完毕后,将碳层材料从前述的基板上揭下来。利用本发明,在碳层材料外围通过聚合物气相沉积的方式生成镀膜,来将现有的碳层材料的保护层的厚度大幅度降低,从而有效提升碳层材料应用于导热目的情况下的散热效率,以及应用于其它需要在碳层材料上设置保护层的场合。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 保护层 结构 材料 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种具有保护层结构的碳层材料的制备方法,其特征在于:对碳层材料进行单层镀膜,镀膜的方式包括有如下步骤,步骤1,设置涂有压敏胶的基板;步骤2,对应着前述基板上的压敏胶位置贴上碳层材料,对碳层材料进行聚合物气相沉积操作;步骤3,聚合物气相沉积镀膜的厚度选择在0.05‑15微米之间,在聚合物气相沉积操作完毕后,将碳层材料从前述的基板上揭下来。
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