[发明专利]用于刻蚀电控衍射光学器件的激光直写刻蚀系统及其方法

摘要

本发明公开了一种用于刻蚀电控衍射光学器件的激光直写刻蚀系统及利用其制备电控衍射光学器件的方法，该系统包括用于发射单束激光束的激光器、用于固定刻蚀样品的可控载物台、激光倍频系统和光束整形系统，优点是通过激光倍频系统将激光器发射的单束激光束转换为紫外激光束，利用光束整形系统使从激光倍频系统输出的紫外激光束通过光束整形系统后形成为一聚焦光斑，使用时将刻蚀样品即聚合物分散液晶光开关放置于光束整形系统输出的聚焦光斑的焦平面上，这样光束整形系统输出的聚焦光斑照射于刻蚀样品上就完成了微米级的图案的刻蚀，不仅结构简单，而且操作方便；该方法能够在聚合物分散液晶光开关上刻蚀出各类一维、二维微结构及衍射光学器件。

主权项

一种用于刻蚀电控衍射光学器件的激光直写刻蚀系统，包括用于发射单束激光束的激光器和用于固定刻蚀样品的可控载物台，其特征在于还包括：激光倍频系统，将所述的激光器发射的单束激光束转换为紫外激光束；光束整形系统，从所述的激光倍频系统输出的紫外激光束通过所述的光束整形系统后形成为一聚焦光斑，所述的刻蚀样品位于所述的光束整形系统输出的聚焦光斑的焦平面上，所述的光束整形系统输出的聚焦光斑照射于所述的刻蚀样品上完成微米级的图案的刻蚀；所述的刻蚀样品为聚合物分散液晶光开关。