[发明专利]涡旋反应釜合成装置有效
| 申请号： | 201210449241.5 | 申请日： | 2012-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN102989408A | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 龚光波 | 申请（专利权）人： | 武汉金一波科技有限公司 |
| 主分类号： | B01J19/24 | 分类号： | B01J19/24;C01F7/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 430056 湖北省武汉*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种涡旋反应釜合成装置，包括反应釜体；还包括设置在反应釜体内的涡旋隔离机构；所述涡旋隔离机构包括多片蝶形叶片、中心柱和上层隔离筛；所述多片蝶形叶片按照逆时针螺旋上升状分层安装在中心柱上；所述中心柱底部与上层隔离筛固定；所述上层隔离筛固定在反应釜体的内壁下端。本发明在反应釜中设置涡旋隔离装置，其蝶形叶片能形成涡旋环境，从而加速反应的进行，有助于反应物的反应完全性，为纳米粒子的有序结构创造了良好的反应环境，因而极大地提升了转化率，缩短了诱导时间，降低了生产成本，提高了反应物的循环利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 涡旋 反应 合成 装置 | ||
【主权项】：
涡旋反应釜合成装置，包括反应釜体(1)；其特征在于：还包括设置在反应釜体(1)内的涡旋隔离机构(2)；所述涡旋隔离机构(2)包括多片蝶形叶片(21)、中心柱(22)和上层隔离筛(23)；所述多片蝶形叶片(21)按照逆时针螺旋上升状分层安装在中心柱(22)上；所述中心柱(22)底部与上层隔离筛(23)固定；所述上层隔离筛(23)固定在反应釜体(1)的内壁下端。
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