[发明专利]一种大电流密度的横向超薄绝缘栅双极型晶体管有效

专利信息
申请号: 201210442085.X 申请日: 2012-11-07
公开(公告)号: CN102903746A 公开(公告)日: 2013-01-30
发明(设计)人: 祝靖;曹鲁;钱钦松;孙伟锋;陆生礼;时龙兴 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/06
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 214135 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种大电流密度的横向超薄绝缘栅双极型晶体管,包括P型衬底,在P型衬底上设有埋氧层,在埋氧层上设有N型外延层,在N型外延层内设有N型阱区及P型基区,在P型基区内设有第一P型接触区和N型源区,在N型阱区内设有N型缓冲区,在N型阱区上设有场氧化层,在N型缓冲区内设有P型漏区,在N型外延层内设有由P型环形基区构成的P型基区阵列,所述P型基区阵列位于N型阱区与P型基区之间,在所述P型环形基区内设有第二P型接触区和N型环形源区,第二P型接触区位于N型环形源区内,本发明大大的增加了横向超薄绝缘栅双极型晶体管的电流密度,可以极大的提高智能功率模块的性能。
搜索关键词: 一种 电流密度 横向 超薄 绝缘 栅双极型 晶体管
【主权项】:
一种大电流密度的横向超薄绝缘栅双极型晶体管,包括:P型衬底(1),在P型衬底(1)上设有埋氧层(2),在埋氧层(2)上设有N型外延层(3)且N型外延层(3)的厚度为0.1~1.5μm,在N型外延层(3)内设有N型阱区(4)及P型基区(6a),在N型阱区(4)内设有N型缓冲区(5),在N型阱区(4)上设有场氧化层(11),并且,N型缓冲区(5)的一个边界与场氧化层(11)的一个边界相抵,在N型缓冲区(5)内设有P型漏区(9),在P型基区(6a)内设有第一P型接触区(7a)和N型源区(8a),其特征在于,在N型外延层(3)内设有由P型环形基区(6b)构成的P型基区阵列(17),所述P型基区阵列(17)位于N型阱区(4)与P型基区(6a)之间,在所述P型环形基区(6b)内设有第二P型接触区(7b)和N型环形源区(8b),第二P型接触区(7b)位于N型环形源区(8b)内,在场氧化层(11)与N型环形源区(8b)相邻的边界区域表面设有第一多晶硅栅(12a),且第一多晶硅栅(12)自场氧化层(11)的边界朝N型环形源区(8b)方向延伸至N型环形源区(8b)的上方,在第一多晶硅栅(12a)的延伸区域下方设有第一栅氧化层(10a),在N型外延层(3)的上方设有第二多晶硅栅(12b),并且,第二多晶硅栅(12b)的一个边界延伸至N型环形源区(8b)的上方,第二多晶硅栅(12b)的另一个边界延伸至N型源区(8a)的上方,在第二多晶硅栅(12b)的下方设有第二栅氧化层(10b),在场氧化层(11)、第一多晶硅栅(12a)、第二多晶硅栅(12b)、P型基区(6a)、P型环形基区(6b)、第一P型接触区(7a)、N型源区(8a)、第二P型接触区(7b)、N型环形源区(8b)、N型缓冲区(5)及P型漏区(9)上设有介质隔离氧化层(13),在第一P型接触区(7a)、N型源区(8a)、第二P型接触区(7b)及N型环形源区(8b)上连接发射极金属连线(14),在P型漏区(9)上连接集电极金属连线(15),在第一多晶硅栅(12a)和第二多晶硅栅(12b)上连接栅极金属连线(16)。
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