[发明专利]一种TiO2/SiO2-Ag-SiO2纳米复合薄膜的制备方法无效
| 申请号： | 201210415766.7 | 申请日： | 2012-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN102909008A | 公开（公告）日： | 2013-02-06 |
| 发明（设计）人： | 徐进霞;梅菲 | 申请（专利权）人： | 湖北工业大学 |
| 主分类号： | B01J23/50 | 分类号： | B01J23/50 |
| 代理公司： | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 张火春;汪俊锋 |
| 地址： | 430068 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种TiO2/SiO2-Ag-SiO2纳米复合薄膜的制备方法。该方法采用将Ag离子注入后在石英玻璃衬底中形成Ag纳米颗粒，然后利用直流反应磁控溅射在该二氧化硅衬底表面沉积TiO2薄膜，得到TiO2/SiO2-Ag-SiO2复合薄膜。本发明所制备的Ag纳米颗粒镶嵌在石英玻璃中很好的克服了Ag纳米颗粒被氧化的问题。本办法所制得纳米复合结构可大幅度提高二氧化钛对紫外光部分的吸收，从而提高其光催化效率，能广泛应用于光电子领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 tio sub sio ag 纳米 复合 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种 TiO2/SiO2‑Ag‑ SiO2纳米复合薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：1）以石英玻璃为衬底，将能量为20到60 kV 剂量为5×1016 到1×1017 ions/cm2 Ag离子注入到衬底中，使其在衬底中形成Ag纳米颗粒；2）利用直流反应磁控溅射在已形成Ag纳米颗粒的石英玻璃衬底表面沉积厚度不超过100 nm的TiO2薄膜，并在氧气气氛下400～500 ºC 保温退火，得到锐钛矿相TiO2薄膜，从而得到TiO2/SiO2‑Ag‑SiO2复合薄膜。
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