[发明专利]用于磁共振成像系统的末端凸缘和制造方法有效

专利信息
申请号: 201210395077.4 申请日: 2012-07-27
公开(公告)号: CN102955141A 公开(公告)日: 2013-03-06
发明(设计)人: 江隆植 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: G01R33/3815 分类号: G01R33/3815;H01F6/04
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 姜甜;丁永凡
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明名称为用于磁共振成像系统的末端凸缘和制造方法。提供一种用于磁共振成像(MRI)系统的末端凸缘和用于制造末端凸缘的方法。一个末端凸缘是用于MRI系统(20)的真空容器(24)。所述真空容器包括配置成在其中收容磁体组装件的壳体(24)和构成所述壳体末端的末端凸缘(32)。所述凸缘包括外表面(44)、内表面(46)和联接在所述外和内表面之间的芯(48),其中所述芯具有比所述外表面和所述内表面大的刚度。
搜索关键词: 用于 磁共振 成像 系统 末端 凸缘 制造 方法
【主权项】:
一种真空容器(24),用于磁共振成像MRI系统(20),所述真空容器包含:壳体(24),其配置成在其中收容磁体组装件;以及末端凸缘(32),其构成所述壳体的末端,其中,所述末端凸缘包括外表面(44)、内表面(46)、和联接在所述外和内表面之间的芯(48),所述芯具有比所述外表面和所述内表面大的刚度。
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