[发明专利]一种高压二极管封装制造工艺有效

专利信息
申请号: 201210394355.4 申请日: 2012-10-17
公开(公告)号: CN102881601A 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 黄丽凤 申请(专利权)人: 如皋市大昌电子有限公司
主分类号: H01L21/50 分类号: H01L21/50;H01L21/60;H01L21/329
代理公司: 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 代理人: 滑春生
地址: 226500 江苏省南通市如*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种高压二极管封装制造工艺,首先将高压二极管芯片经过酸腐蚀,与经过涂有助焊剂的引线在高温链式炉中焊接,焊接后浸泡在活化剂中,利用超声波清洗助焊剂,焊接过程中无需通入氢气,避免由于氢气爆炸造成的人身伤害事故,该封装工艺无任何安全隐患,加工后的产品性能稳定、可靠。
搜索关键词: 一种 高压 二极管 封装 制造 工艺
【主权项】:
一种高压二极管封装制造工艺,其特征在于:包括以下步骤:(1)将引线装入石墨舟,在引线钉头上涂刷助焊剂,芯片经过酸腐蚀后,填进已装入引线的石墨舟,在高温链式炉中进行焊接,焊接过程中通入高纯氮气;(2)对上述焊接后的产品进行去助焊剂残留物处理:首先将产品用活化剂浸泡120s,接着,采用超声清洗产品去除表面助焊剂残留物,清洗完后,重复上述活化剂浸泡步骤,最后用无水乙醇分两次浸泡,时间分别是120s;(3)将经过步骤(2)处理的产品置于恒温槽中烘干200s,恒温槽中通入氮气,防止产品氧化;(4)经过氮气烘干的产品由氢氟酸处理后,再经碱腐蚀,进一步去除芯片表面残留杂质;(5)在芯片表面上胶,高温固化,经过塑封成型,完成封装得成品。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于如皋市大昌电子有限公司,未经如皋市大昌电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210394355.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top