[发明专利]钝化层溶液组合物、薄膜晶体管阵列板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210392573.4 申请日: 2012-10-16
公开(公告)号: CN103102801A 公开(公告)日: 2013-05-15
发明(设计)人: 安秉斗;延昇浩;朴世容;朴美蕙;宋夫燮;李泰权;朴埈贤;李制勋;朴在佑 申请(专利权)人: 三星显示有限公司;三星精密化学株式会社
主分类号: C09D183/06 分类号: C09D183/06;C09D183/07;H01L29/786;H01L23/29;H01L21/77
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 金拟粲
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 提供钝化层溶液组合物、薄膜晶体管阵列板及其制造方法。根据本发明的示例性实施方式的钝化层溶液组合物包括由以下化学式1表示的有机硅氧烷树脂。在化学式1中,R为选自具有1-约25个碳原子的饱和烃及不饱和烃的至少一种取代基,且x和y可各自独立地为1-约200,和其中各波浪线表示到H原子或到x硅氧烷单元或y硅氧烷单元的键、或到包括x硅氧烷单元或y硅氧烷单元或其组合的另一硅氧烷链的x硅氧烷单元或y硅氧烷单元的键。[化学式1]
搜索关键词: 钝化 溶液 组合 薄膜晶体管 阵列 及其 制造 方法
【主权项】:
1.钝化层溶液组合物,包括由以下化学式1表示的有机硅氧烷树脂:[化学式1]其中各R为独立地选自具有1-25个碳原子的饱和烃及不饱和烃的取代基,且x和y各自独立地为1-200的整数,其中各波浪线表示到H原子或到x硅氧烷单元或y硅氧烷单元的键、或到包括x硅氧烷单元或y硅氧烷单元或其组合的另一硅氧烷链的x硅氧烷单元或y硅氧烷单元的键。
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