[发明专利]一种新型太赫兹超宽通带滤波器的制造方法有效

专利信息
申请号: 201210384068.5 申请日: 2012-10-11
公开(公告)号: CN102868013A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 金飚兵;梁兰菊;贾小氢;吴培亨 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: H01P11/00 分类号: H01P11/00
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 夏雪
地址: 210093*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种新型太赫兹超宽通带滤波器的制造方法,包括如下步骤:清洗基片;在所述基片上涂覆聚酰亚胺膜;在所述聚酰亚胺膜上涂覆光刻胶LOR并烘干;在所述光刻胶LOR上涂覆光刻胶AZ1500并烘干;对光刻胶进行曝光;对曝光后的光刻胶进行显影和烘干;在所述光刻胶AZ1500和露出的聚酰亚胺膜上蒸发第一层金属;将蒸发第一层金属的基片浸泡在丙酮溶液中剥离;在所述基片上涂覆聚酰亚胺膜并进行固化;在所述光刻胶AZ1500和露出的聚酰亚胺膜上蒸发第二层金属;将蒸发第二层金属的基片浸泡在丙酮溶液中剥离;在所述基片上涂覆聚酰亚胺膜并进行固化;去除基片:将基片和聚酰亚胺膜剥离。本发明实现频带的拓展。
搜索关键词: 一种 新型 赫兹 超宽通带 滤波器 制造 方法
【主权项】:
一种新型太赫兹超宽通带滤波器的制造方法,包括如下步骤:(1)清洗基片;(2)在所述基片上涂覆聚酰亚胺膜;(3)在所述聚酰亚胺膜上涂覆光刻胶LOR并烘干;(4)在所述光刻胶LOR上涂覆光刻胶AZ1500并烘干;(5)对光刻胶进行曝光;(6)对曝光后的光刻胶进行显影和烘干;(7)在所述光刻胶AZ1500和露出的聚酰亚胺膜上蒸发第一层金属;(8)将蒸发第一层金属的基片浸泡在丙酮溶液中剥离去除剩下的光刻胶AZ1500与所述光刻胶AZ1500上的第一层金属,然后用显影液去除剩余的光刻胶LOR;(9)在所述基片上涂覆聚酰亚胺膜并进行固化;(10)重复步骤(3)至步骤(6);(11)在所述光刻胶AZ1500和露出的聚酰亚胺膜上蒸发第二层金属;(12)将蒸发第二层金属的基片浸泡在丙酮溶液中剥离去除剩下的光刻胶AZ1500与所述光刻胶AZ1500上的第二层金属,然后用显影液去除剩余的光刻胶LOR;(13)在所述基片上涂覆聚酰亚胺膜并进行固化;(14)去除基片:将基片和聚酰亚胺膜剥离。
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