[发明专利]半导体发光装置、发光二极管阵列及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210366294.0 申请日: 2012-09-27
公开(公告)号: CN103378122A 公开(公告)日: 2013-10-30
发明(设计)人: 张源孝;卢怡安 申请(专利权)人: 华夏光股份有限公司
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15;H01L33/38;H01L33/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;常大军
地址: 开曼群岛大开*** 国省代码: 开曼群岛;KY
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摘要: 一种半导体发光装置、发光二极管阵列及其制造方法。半导体发光装置包括一基板及一第一外延结构位于基板之上。第一外延结构包括一第一掺杂层、一第一发光层、及一第二掺杂层。一第一电极耦合于第一掺杂层。一第二电极耦合于第二掺杂层且与第一电极面向相同之方向。一第二外延结构包括一第三掺杂层、一第二发光层、及一第四掺杂层。一第三电极耦合于第三掺杂层且与第一电极面向相同之方向。一第四电极耦合于第四掺杂层且与第一电极面向相同之方向。一黏着层位于第一外延结构和第二外延结构之间。
搜索关键词: 半导体 发光 装置 发光二极管 阵列 及其 制造 方法
【主权项】:
一种半导体发光装置,其特征在于,包括:一基板;一第一外延结构位于该基板之上,该第一外延结构包括一第一掺杂层、一第一发光层及一第二掺杂层;一第一电极耦合于该第一掺杂层;一第二电极耦合于该第二掺杂层,且该第二电极与该第一电极面向相同的方向;一第二外延结构,包括一第三掺杂层、一第二发光层及一第四掺杂层;一第三电极耦合于该第三掺杂层,且该第三电极与该第一电极面向相同的方向;一第四电极耦合于该第四掺杂层,且该第四电极与该第一电极面向相同的方向;以及一黏着层位于该第一外延结构和该第二外延结构之间。
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